Ultrafialová naděje: zápis na kraji spektra

Technologie |

Výrobci procesorů spojili své síly a investují 250 milionů dolarů do vývoje nových technologií, které by umožnily popřít sílící hlasy o tom, že současné procesory se blíží fyzikálním hranicím svých možností. V rámci nového výrobního p ...




Výrobci procesorů spojili své síly a investují 250 milionů dolarů do vývoje nových technologií, které by umožnily popřít sílící hlasy o tom, že současné procesory se blíží fyzikálním hranicím svých možností. V rámci nového výrobního procesu by světlo používané k tištění obvodů na křemíkové destičky procesorů mělo být nahrazeno ultrafialovým zářením z kraje spektra blížícího se rentgenovým paprskům (EUV — Extreme Ultraviolet). Výzkum svěřený americkému Úřadu pro energetiku se zatím zdá být úspěšný, a tak konsorcium firem Intel, AMD, IBM, Infineon, Micron a Motorola mohlo v polovině dubna představit prototyp výrobního zařízení pracujícího na bázi EUV.
K výrobě prvních procesorů vystačila optika z filmové kamery, přesto však cena základního kamene, tedy jednoho tranzistoru, činila tehdy desetmilionkrát více než nyní. Dnešní procesory obsahující desítky milionů tranzistorů stojí méně než 100 dolarů, k jejich výrobě je však třeba optických čoček blížících se svou hmotností až k jedné tuně.
Počátkem 90. let se hranicí pokroku zdály být obvody o šířce miliontiny metru, tj. jednoho mikronu (neboli dvojnásobku vlnové délky viditelného světla). Nyní jsme téměř na osmině této hodnoty a technologie pravděpodobně ještě lehce pokročí. V této fázi však už optické systémy selhávají, materiály přestávají být průhlednými, a proto se pátrá po nových výrobních postupech.
Do konkurzu s EUV vstoupilo rentgenové záření a elektronové paprsky. Zatímco pro rentgen bylo těžké vyrobit masky, které by svým stínem vytvářely na čipu vzorek obvodů, systém pracující de facto jako "obrácený" elektronový mikroskop je svým vykreslováním obvodů řádek po řádku příliš pomalý.
Vítězná technologie EUV používá lasery a optiku vycházející z výzkumu pro armádu USA a z poznatků získaných při výrobě Hubblova teleskopu. S její pomocí může dojít ke zmenšení obvodů ze současných 0,13 mikronu na 0,03 mikronu, dle optimistických předpovědí dokonce až na 0,007 mikronu.
Sériová produkce využívající EUV nezačne dříve než za 4 roky, prozatím na 0,07 mikronu.
Komerční úspěch celé technologie není dosud zaručen, ale tím, že se k ní upnuly největší společnosti vyrábějící polovodiče, silně vzrostl její význam – na EUV tak nyní svým způsobem závisí budoucnost celého IT sektoru.








Související články




Komentáře

Napsat vlastní komentář

Pro přidání příspěvku do diskuze se prosím přihlašte v pravém horním rohu, nebo se prosím nejprve registrujte.